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电子电路大全(PDF格式)-第52部分
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作大信号模型参数发生微小变化时微小变量之间的比率,或者看作某项大信号模型参数对
另一项大信号模型参数的偏微分。
g V
NMOS的小信号等效模型电路如图 2…5 所示,图中各参数定义为:受控电流源 m gs 和
g V V V I
mb bs 分别表示栅极电压 GS 和衬偏电压 bs ,控制产生的漏级电流 d 的分量。跨导gm背
栅跨导gmb根据公式计算得到。 Cgs 、Cgd 为栅…源,栅…漏之间的电容。 Cbg 、Cbs 、Cbd
分别为衬底与栅极、源极、漏极间的电容。
简化为:
di
g D V V I
= =β( ) = 2β
m GS T D
dv
GS Q
20
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di λi
gds = D = D ≈λiD
dv 1+λv
DS Q DS
i i v i v g γ
D D GS D T m
gmbs = = = = =ηgm
v v v v v 2 2 φF …V
BS Q GS BS Q T BS Q BS
重要假设:
g m ≈10g mbs ≈100g ds
那么
例 小信号模型参数的典型值
已知管子的宽长比为W/L=1um/1um的n沟道管和P沟道管,模型参数值如表 2-1 所示,
假设漏极电流的直流量为 50uA,源-体直流电压绝对值为 2V。试利用大信号模型参数分别
求两管的gm、gmbs和gds的值。
解:利用公式求出:n沟道管的gm=105uA/V、gmbs=12。8uA/V和gds=2。0uA/V;p沟道管
的gm=70。7uA/V、gmbs=12。0uA/V和gds=2。5uA/V;
2。2 CMOS 工艺 MOS 管模型参数
(1)0。8um N 阱简单的 MOS 大信号模型(spice level 1)
表 2…1 MOSFET 模型参数
。MODEL NMOS1 NMOS LEVEL=1 VTO=0。7 KP=110U GAMMA=0。4 LAMBDA=0。04 PHI=0。7
。MODEL PMOS1 PMOS LEVEL=1 VTO=…0。7 KP=50U GAMMA=0。57 LAMBDA=0。05 PHI=0。8
21
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(2)0。8um N 阱完整的大信号模型(spice level 1)
。MODEL NMOSl NMOS LEVEL=1 VTO=0。70 KP=110U GAMMA=0。4 LAMBDA=0。04 PHI=0。7
+MJ=0。5 MJSW=0。38 CGBO=700P CGSO=220P CGDO=220P CJ=770U CJSW=380P
+LD=0。016U TOX=14N
。MODEL PMOSl PMOS LEVEL=1 VTO=…0。7 KP=50U GAMMA=0。57 LAMBDA=0。05 PHI=0。8
+MJ=0。5 MJSW=0。35 CGBO=700P CGSO=220P CGDO=220P CJ=560U CJSW=350P
+LD=0。014U TOX=14N
(3)BSIM SPICE 模型
前面列举的MOS管大信号模型简单并且便于手工计算,不过忽略了很多重要的二阶效
应。大部分的二阶效应是由于窄或者短的沟道尺寸(小于 3um)引起的。SPICE Level 3 半
经验模型对于大于 0。8um的沟道长度的MOS工艺较为有效。BSIM1 SPICE(Level 4,HSPICE
为Level 13,60 个直流参数)模型对沟道长度小到 1um的MOSFET都能建模;沟道长度更短
的MOSFET则需要使用BSIM2(99 个直流参数)、BSIM3(Level 8,HSPICE为Level 49,40
个直流参数)或者BSIM4 来建模;BSIM3V3 对深亚微米器件有效,已经成为工业界标准的MOS
管模型。(NMOS和PMOS的SPICE模型有很多种,BSIM模型是其中的一种,一般是通过自动化
的参数提取和模型生成软件来完成。目前绝大多数芯片加工厂商都采用BSIM模型来描述他
们加工的器件的性能)
目前,产业界的很多芯片加工厂商并不提供Level 1、Level 2 或者Level 3 的SPICE
模型(MOSIS除提供BSIM模型外还提供Level 2 和Level 3 模型),学生需要掌握利用BSIM
参数来提取阈值电压、跨导等参数,以用于手工计算。
注意:如无特别说明,后章所有计算均以 0。8um模型参数为基础;高级的 0。6um双阱和
0。25um N阱CMOS工艺模型参数见附录;Berkely提供的SPICE2 和SPICE3 以及BSIM1 模型,
都不具备对噪声和温度建模的能力。
2。3 用 HSPICE 仿真 MOS 输出特性
在图 2-6 中,N沟道管采用LEVEL 1 模
型和表 2-1 中给出的参数值,试采用HSPICE
仿真得到晶体管的输出特性。仿真中假设体
电压为 0,绘制漏-源电压从 0V到 5V变化、
栅-源电压分别为 1V、2V、3V、4V和 5V时的
输出特性曲线族。
图 2…6 MOS 管输出特性测试
(1)SPICE 输入文件
EX2。1 use spice to simulation MOS output
。option post=2 numdgt=7 tnom=27
*。OPTIONS LIST NODE POST
M1 2 1 0 0 MOS1 W=5U L=1U
22
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VDS 2 0 5
VGS 1 0 1
。MODEL MOS1 NMOS VTO=1 KP=110U GAMMA=0。4 LAMBDA=0。01 PHI=0。7
。DC VDS 0 5 0。2 VGS 0 5 1
*。PRINT DC V(2) I(VDS)
。PRINT DC i(m1) vth=lv9(m1)
。END
(2)仿真结果
图 2…7 MOS 管输出特性测试仿真曲线
2。4 练习
(1)改变W、L的值,测试MOS管的输出特性,和前面的结果比较,说明引起差别的原
因。
(2)请用 0。6um N阱CMOS工艺模型仿真MOS N沟道管输出特性,并对仿真结果进行阐
述。
(3)请用 0。6um N阱CMOS工艺模型仿真MOS P沟道管输出特性,并阐述仿真结果。
(4)用HSPICE仿真分析MOS体效应:VSB从 0V变化到 5V、VDS固定为 5V的情况下,画
出MOSFET的漏电流与栅源电压之间的关系图。
图 2…8 MOS 管体效应测试仿真曲线
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当衬底电压变得更“负”的时候,阈值电压会相应增加(这就是体效应)。另外,随着
VSB的增大,阈值电压的变化量越来越小;在设计模拟电路时,利用这个特性可以提高阈值
电压的匹配度。
(5)用HSPICE仿真分析亚阈值电流:对于 0。8um 工艺加工的W=L=5um的NMOS管,当VGS
从 0。65V变化到 0。75V时,用HSPICE画出对应不同的VGS的IDS-VDS曲线并分析。
图 2…9 MOS 管亚阈值效应测试仿真曲线
(6)用HSPICE仿真阈值电压随温度的变化。
图 2…10 MOS 管阈值电压随温度的变化仿真曲线
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第 3 章 恒流源电路分析与设计
3。1 恒流源电路
I
恒流源电路如图 3…1 所示,图中 R 为参考电流,
I
0 为输出电流,MOS管工作在饱和区,当MOS管M2 的
V ≥V …V
DS GS T ,则M2 工作在饱和区。根据饱和区的
I I
电流方程可求得 0 与 R 的关系式为
I O S 2 (1 + λV D S 2 ) S 2
图 3…1 恒流源电路 = =
I R S 1 (1 + λV D S 1 ) S 1
(3…1)
S 2 (1 + λV D S 2 )
I = I
O R
S 1 (1 + λV D S 1 ) (3…2)
式中S1 为M1 的宽长比,S2 为M2 的宽长比,λ为沟道调制系数,并假定两管的工艺参
I
数相同。由式(3…2)可知,只要改变M1 和M2 的宽长比,就可以设计出所需要的 0 。若
V =V I =I
DS 2 DS1 , S1= S2,则 0 R 。
V =V V =V
因为 DS 1 GS 1 , DS 2 0 , Vo是输出电压,但是一般情况下Vo是一变量,且
V 》V
0 DS 1 ,由于沟道长度调制效应的存在,Io随输出电压Vo的变化而变化,因此,只有在
λ=0 时才能使I 0 为恒定值。为了使其恒流特性有所改善,可增大M2 的沟道长度L。L增大,
λ r
使 减小,输出阻抗 0 增大,恒流特性得到改善。
例:镜像电流源电路中,Iin=100uA,每个晶体管W/L= 100um/1。6um。假设
unCox=92uA/V2 ,Vtn=0。8V,rds='8000L(um)'/'ID(mA)',求镜像电流源的rout和gm1 的值,
并推算输出电压变化 0。5V时Iout的变化情况。
解:因为M1 和M2 的W/L比相同,所以Iout的额定值等于Iin的额定值为 100uA。这样,
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…………………………………………………………Page 474……………………………………………………………
我们得到
Rout=rds2=8000*1。6/0。1=128kΩ
gm1 的值由下式得出。
gm1='2unCox(W/L)ID1'1/2=1。07mA/V
得到rs1=1/gm1=935Ω。这个rs1 值远小于rds1,在这个例子中rds1 等于rds2。
输出电流的变化可以利用rout推算为
ΔIout=ΔV/rout=0。5/128 kΩ=3。9uA
换句话说,如果原来Iout测量为 101uA(由于不匹配和一个更大的VDS电压),输出电压
增加 0。5V将产生一个大约 105uA的新的输出电流。注意:这个估算并没有说明诸如rds实际
上随着输出电流改变这样的二级效应。
有三种因素会使电流镜与式(3…1)描述的理想情况不同。这些因素是:(1)沟道长度调
制。好的电流镜或电流放大器应当有相同的漏-源电压和高的输出电阻。(2)两个管子之
间的阈值偏差。对于适宜的硅栅CMOS工艺,相同且靠得很近得两只管子阈值电压的典型失
调值小于 10mV。(3)非理想的几何图形匹配。指两个器件的宽长比的误差,由于存在掩膜、
光刻、刻蚀以及外扩散的差异,即使是两个管子并排放在一起也会有所不同。
3。2 高输出阻抗的恒流源电路
为了抑制沟道长度调制作用的影响,得到更好的电路性能,就要对上述基本电流镜进
行改进。如图 3…2 所示,它与基本电流镜相比增加了M3、M4。由于增加了这两个MOS管,使
V
该电流镜具有很好的恒流特性以及高的输出阻抗。由图 3…2 可知M3 和M4 使Ml的 DS 1 和M2
V I I
的 DS 2 相同或近似相同。其中 0 和 R 的关系可写为:
I O S 2 (1 + λV D S 2 ) S 2
=
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